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Diffuse Probe Grid组件

Diffuse Probe Grid 组件创建一个光探头体积,在指定区域内提供漫反射全局照明(GI)。体积中的每个探针都使用实时光线追踪来捕捉辐照度或周围的漫射光环境。实时光线追踪会在每个探针周围的不同方向投射数百条光线。每条光线的最大长度为 30 米。在光线与周围几何体的每个交叉点,探头都会存储照明信息。然后,利用光线追踪数据创建辐照度纹理,并将纹理应用到每个网格上。

注意:
要在Atom 渲染器中使用光线追踪功能,您的 GPU 必须支持 DirectX Shader Model 6.3 或更高版本。

提供方

Atom Gem

依赖

Box Shape 组件

属性

Diffuse Probe Grid component properties

Bake Textures

属性说明默认值
Bake Textures将周围的漫反射光环境烘焙成纹理,并在Editor ModeRuntime Mode设置为 Baked时使用。只有当编辑器模式或运行时模式设置为 Real Time (Ray-Traced) 时,才能烘焙纹理。--

Probe Spacing

探针间距是指沿体积内各轴探针之间的距离(以米为单位)。间距越小,探针数量越多,从而提高 GI 的逼真度,但会牺牲性能和内存。空间的最大范围取决于 Box Shape 组件的尺寸。

属性说明默认值
X-Axis探针之间沿 x 轴的空间大小。该空间必须在 Box Shape 组件沿 x 轴的尺寸范围内。0.0 到 Box Shape 组件的 Dimensions-X 属性。2.0
Y-Axis探针之间沿 Y 轴的空间大小。该空间必须在 Box Shape 组件沿 Y 轴的尺寸范围内。0.0 到 Box Shape 组件的 Dimensions-Y 属性,2.0
Z-Axis探针之间沿 Z 轴的空间大小。该空间必须在Box Shape组件沿 Z 轴的尺寸范围内。0.0 到 Box Shape 组件的 Dimensions-Z 属性,2.0

Grid Settings

属性说明默认值
Ambient Multiplier增加体积内 GI 的强度。它可用于微调场景的光照,或使 GI 更明显以便调试。0.010.01.0
View Bias微调功能可消除因探头位置而可能出现的视觉伪影。0.01.00.2
Normal Bias表面到光线二次射线投射的微调,用于确定表面点是否受直射光影响。增加法线偏置会使光线投射的起点离表面更远,从而更有可能受到直射光的影响。0.01.00.1
Editor Mode控制Editor使用实时还是烘焙漫反射 GI。Real Time (Ray-Traced) 要求 GPU 具有光线追踪功能。如果没有光线追踪功能,Auto Select将使用Baked作为备用。请参阅 全局光照模式Real Time (Ray-Traced), Baked, Auto SelectReal Time (Ray-Traced)
Runtime Mode控制单机运行时使用实时还是烘焙漫反射 GI。Real Time (Ray-Traced)要求 GPU 具有光线追踪功能。如果没有光线追踪功能,Auto Select将使用Baked作为备用。请参阅 全局光照模式Real Time (Ray-Traced), Baked, Auto SelectReal Time (Ray-Traced)

全局光照模式

您可以通过调整 Editor ModeRuntime Mode属性来调整编辑器和独立运行时处理 GI 的方式。共有三种模式:

  • Real Time (Ray-Traced): 根据周围几何体和光线的变化不断更新。它要求 GPU 能够使用 DXR 或 Vulkan-RT 进行实时光线追踪。该模式最适合编辑场景,但会降低性能,具体取决于 GPU 和场景中网格的复杂程度。

  • Baked: 使用之前通过Bake Textures按钮捕捉并存储在纹理中的光照信息。在没有能进行实时光线追踪的 GPU 的机器上,它可以大大提高性能,并允许使用漫反射 GI。

  • Auto Select: 根据机器 GPU 的性能决定使用哪种模式。这样就可以在支持该模式的机器上提供实时光线追踪漫反射 GI,同时也可以将烘焙漫反射 GI 作为备用模式。

编辑器和运行时有多种配置设置:

  • Editor Real-Time and Runtime Baked: 编辑器使用实时漫反射 GI 更新,而运行时则使用烘焙漫反射 GI 以获得最佳性能。请注意,必须明确烘焙纹理,运行时才能以Baked模式运行。

  • Editor Real-Time and Runtime Auto Select: 编辑器使用实时光线追踪技术以获得最佳编辑体验,而运行时则根据 GPU 的能力选择实时光线追踪或烘焙。

  • Editor Baked and Runtime Baked: 编辑器和运行时均使用烘焙漫反射 GI 以获得最佳性能。在适当的时候,可以将编辑器模式临时切换为Real Time (Ray-Traced)并烘焙纹理,从而显式烘焙纹理。