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Reflection Probe 组件
Reflection Probe 将镜面反射应用于探针体积内的网格。 反射以立方图的形式存储，并在烘焙时使用反射探针的实体位置作为捕捉点。
每个Reflection Probe由两个体积组成：一个外体积（使用Box形状组件指定）和一个内体积。 外部体积定义了受探针影响的总面积，并与其他重叠的探针体积和 Global IBL镜面立方体地图进行混合。 内体积定义了仅使用探针立方体贴图渲染的区域，这意味着没有来自其他探针或全局 IBL 的混合。 请注意，如果多个探针内部体积重叠，则使用最小的体积。
提供方
依赖
属性
Inner Extents 属性
| 属性 | 说明 | 值 | 默认值 |
|---|---|---|---|
| Height | 反射探头内部空间的高度。高度取决于Box Shape组件沿 Z 轴的尺寸。 | 0 到 Box Shape 组件的 Dimensions-Z 属性 | Box Shape 组件的 Dimensions-Z 属性的值。 |
| Length | 反射探头内部空间的长度。长度取决于Box Shape组件沿 Y 轴的尺寸。 | 0 到 Box Shape 组件的 Dimensions-Y 属性 | Box Shape 组件的 Dimensions-Y 属性的值。 |
| Width | 反射探头内部空间的宽度。宽度取决于Box Shape组件沿 x 轴的尺寸。 | 0 到 Box Shape 组件的 Dimensions-X 属性 | Box Shape 组件的 Dimensions-X 属性的值。 |
Settings 属性
| 属性 | 说明 | 值 | 默认值 |
|---|---|---|---|
| Parallax Correction | 通过调整捕捉位置的偏移来修正反射。 | Boolean | Enabled |
| Show Visualization | 显示一个可视化探针的球体。 | Boolean | Enabled |
| Exposure | 在场景中应用反射立方体贴图时使用的曝光量。 | -5.0 to 5.0 | 0.0 |
Cubemap Bake 属性
| 属性 | 说明 | 值 | 默认值 |
|---|---|---|---|
| Bake Reflection Probe | 将周围环境烘焙成立方图。 | - | - |
| Bake Exposure | 烘焙反射立方图时使用的曝光量。 | -16.0 to 16.0 | 0.0 |
Cubemap 属性
| 属性 | 说明 | 值 | 默认值 |
|---|---|---|---|
| Use Baked Cubemap | 如果启用，将使用烘焙的立方图创建反射效果。 | Boolean | Enabled |
| Baked Cubemap Quality | 烘焙立方图的分辨率。 | Very Low, Low, Medium, High, Very High | Medium |
| Baked Cubemap path | 烘焙后的 cubemap 文件的路径。烘焙 cubemap 时，此属性会自动生成 cubemap 文件的路径。 | - | - |